詳細摘要： MATTSON二手刻蝕機ASPENIII，2006年設備，lightetcher，可對12英寸晶圓進行蝕刻工藝處理
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-30 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細摘要： MATTSON二手刻蝕機ASPENIII，2006年設備，lightetcher，可對12英寸晶圓進行蝕刻工藝處理
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-30 在線留言
詳細摘要： 二手刻蝕機現(xiàn)貨供應MATRIXSYSTEMONE106，1995年設備，可對4-6英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-14 在線留言
詳細摘要： 二手刻蝕機現(xiàn)貨TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年設備，可對尺寸為5英寸的晶圓進行蝕刻工藝處理
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-13 在線留言
詳細摘要： PVATEPLA/TECHNICS300AUTOLOADPC刻蝕機
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-05 在線留言
詳細摘要： PVATEPLA/TECHNICS660刻蝕機二手現(xiàn)貨，2008年設備，僅運行16小時，微波等離子刻蝕設備
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-30 在線留言
詳細摘要： AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專有ICP源設計，為半導體制造商提供經(jīng)過生產(chǎn)驗證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-21 在線留言
詳細摘要： TEL刻蝕系統(tǒng)Tactras™是一種高度可靠的300毫米等離子蝕刻系統(tǒng)，可提高蝕刻工藝的工作效率
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-20 在線留言
詳細摘要： TEL刻蝕系統(tǒng)CertasLEAGA™是一種環(huán)保、高通量的氣體化學蝕刻系統(tǒng)，專為300毫米晶圓而設計，無需使用液體即可提供表面蝕刻和清潔
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-19 在線留言
詳細摘要： SAMCO等離子刻蝕機RIE-300NR是一種理想的反應離子蝕刻系統(tǒng)，適用于加工?300mm晶圓和多晶圓（?3"×12，?4"×8等），具有優(yōu)異的均勻性
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-14 在線留言
詳細摘要： SAMCOICP刻蝕機RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進行各種材料的超精細加工的負載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-13 在線留言
詳細摘要： SAMCO二手現(xiàn)貨ICP刻蝕機RIE-400iP是用于?4"晶圓的負載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，可對各種半導體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-12 在線留言
詳細摘要： SAMACOICP蝕刻設備RIE-800iPC，具有優(yōu)良工藝再現(xiàn)性的生產(chǎn)設備它是一種使用感應耦合等離子體作為放電類型的高密度等離子體蝕刻設備
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-11 在線留言
詳細摘要： SAMCO二手翻新ICP刻蝕機RIE-400iPC，是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)，采用電感耦合等離子體作為放電形式
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-10 在線留言
詳細摘要： Lam9600旨在蝕刻具有高度垂直側(cè)壁的鋁金屬和TiW層，適用于0.35um線寬
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-06-03 在線留言
詳細摘要： SAMCO二手翻新刻蝕系統(tǒng)刻蝕機RIE-10NR產(chǎn)品優(yōu)勢：高度緊湊型設計，節(jié)約空間
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-01-09 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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